Speċjali -Wejfers tas-Silikon ta' Orjentazzjoni Għal XRD Zero-Detenturi ta' Kampjuni ta' Sfond: Spjegazzjoni Dettaljata tar-Rekwiżiti ta' Orjentazzjoni

F'esperimenti ta' diffrazzjoni tar-raġġi X (XRD), l-użu ta' sottostrat żero-sfond jista' jnaqqas b'mod sinifikanti l-interferenza mis-sottostrat innifsu għas-sinjal tad-diffrazzjoni tal-kampjun, li jirriżulta f'mudelli ta' diffrazzjoni ta' kwalità ogħla.Għażla tal-orjentazzjoni tal-kristallhuwa wieħed mill-fatturi ewlenin biex jinkiseb żero-prestazzjoni fl-isfond.

Prinċipju Ewlieni

L-għażla tal-orjentazzjoni tal-kristall għal sottostrati ta' sfond żero-ssegwi prinċipju sempliċi:Poġġi l-quċċata tad-diffrazzjoni prinċipali tas-sottostrat tas-silikon barra l-firxa ta 'skannjar 2θ użata b'mod komuni ta' esperimenti, u b'hekk tevita interferenza mas-sinjal tad-diffrazzjoni mill-kampjun innifsu.

Il-firxa tal-iskannjar tal-esperimenti konvenzjonali tat-trab XRD hija l-aktar ikkonċentrata fiha5 gradi - 90 grad (2θ), għalhekk huwa meħtieġ li tagħżel orjentazzjoni speċjali tal-kristall b'tali mod li l-quċċata tad-diffrazzjoni karatteristika tas-silikon tidher barra din il-medda.

Orjentazzjonijiet Speċjali Użati Komunement

1. <510>Orjentazzjoni

• Karatteristiċi tad-diffrazzjoni: Il-quċċata tad-diffrazzjoni prinċipali tas-silikon tidher f'angolu ta '2θ relattivament għoli, li jaqbeż il-firxa ta' skanjar użata b'mod komuni ta 'esperimenti XRD konvenzjonali. Għalhekk, kważi l-ebda quċċata ovvja tad-diffrazzjoni tas-sottostrat tas-silikon ma tidher fil-medda ta '5 gradi -90 grad.
• Vantaġġi: Prestazzjoni eċċellenti ta' żero-sfond, bħalissa l-aktar orjentazzjoni ta' sottostrat ta' żero-sfond użata b'mod komuni fir-riċerka xjentifika.
• Applikabilità: Rakkomandat għall-biċċa l-kbira tal-esperimenti XRD konvenzjonali, speċjalment l-XRD tat-trab u l-ittestjar tal-XRD ta' -angolu baxx.

2. <511>Orjentazzjoni

• Karatteristiċi tad-diffrazzjoni: Simili għal<510>, il-quċċata tad-diffrazzjoni karatteristika tagħha tinsab ukoll barra mill-medda sperimentali konvenzjonali u mhux se tikkawża interferenza sinifikanti għas-sinjal tal-kampjun.
• Vantaġġi: Jipprovdi wkoll prestazzjoni eċċellenti ta' żero-sfond.
• Applikabilità: Għażla mainstream oħra, xi riċerkaturi jippreferu din l-orjentazzjoni bbażata fuq il-konfigurazzjoni tal-istrumenti jew drawwiet sperimentali.

Għaliex Orjentazzjonijiet Konvenzjonali Mhumiex Adattati?

L-orjentazzjonijiet tal-wejfer tas-silikon l-aktar komuni fis-suq huma<100>u<111>, iżda mhumiex adattati għal żero-sottostrati ta' sfond:

Għalhekk, għalkemm orjentazzjonijiet konvenzjonali huma faċilment disponibbli, huma assolutament mhux rakkomandati għal żero-esperimenti XRD ta' sfond.

Gwida tal-Għażla tal-Orjentazzjoni

1. Agħżel ibbażat fuq il-firxa tat-test: Jekk l-esperiment tiegħek jiffoka prinċipalment fuq ir-reġjun tal--angolu baxx (XRD tal--angolu żgħir), it-tnejn<510>u<511>jistgħu jissodisfaw id-domanda, u t-tnejn għandhom effetti tajba ta' żero-sfond.
2. Agħżel ibbażat fuq drawwa personali: Laboratorji differenti jista 'jkollhom drawwiet ta' użu tradizzjonali. Iż-żewġ orjentazzjonijiet huma aċċettati b'mod wiesa 'fl-akkademja, u tista' tagħżel skont l-esperjenza tiegħek stess.
3. Personalizzazzjoni ta 'lott żgħir: Orjentazzjonijiet speċjali ma jistgħux jinkisbu minn inventarju konvenzjonali u jeħtieġu qtugħ apposta. Aħna nappoġġjaw il-personalizzazzjoni ta'-lottijiet żgħar tat-tnejn<510>u<511>orjentazzjonijiet, b'ordni minimu ta '5 biċċiet.

Tabella Sommarja

Dwarna

Ningbo Sibranch Microelectronics Technology Co., Ltd jista 'jippersonalizza u jipprovdi<510>jew<511>orjentazzjoni XRD żero-wejfers tas-silikon tas-sottostrat tas-sfond skont ir-rekwiżiti tar-riċerka. Aħna nappoġġjaw daqsijiet speċjali, ħxuna, u rekwiżiti ta 'trattament tal-wiċċ, u naċċettaw ordnijiet ta' lottijiet żgħar.

Websajt: www.sibranch.com|https://www.sibranchwafer.com/
Kont Uffiċjali WeChat: Sibranch Electronics

Għal mistoqsijiet dwar l-adattament, jekk jogħġbok tħossok liberu li tikkuntattjana.