Ossidazzjoni termali ta 'wejfers tas-silikonhuwa proċess li fih saff ta 'dijossidu tas-silikon huwa ffurmat fuq il-wiċċ ta' wejfer tas-silikon taħt temperatura għolja. Dan il-proċess huwa użat ħafna fil-manifattura ta 'apparati semikondutturi u mikroelettronika.
Matul il-proċess, il-wejfer tas-silikon jitqiegħed f'forn u jissaħħan f'temperatura għolja fil-preżenza ta 'ossiġnu jew fwar ta' l-ilma. Hekk kif it-temperatura tiżdied, l-ossiġnu jew fwar ta 'l-ilma jirreaġixxi ma' l-atomi tas-silikon fuq il-wiċċ tal-wejfer, u jiffurmaw saff ta 'dijossidu tas-silikon.
Il-ħxuna tas-saff tal-ossidu tista 'tiġi kkontrollata billi taġġusta t-temperatura u t-tul tal-proċess. Is-saff tal-ossidu li jirriżulta għandu wiċċ lixx u purità għolja, li hija essenzjali għall-produzzjoni ta 'apparat semikonduttur ta' kwalità għolja.
Il-proċess ta 'ossidazzjoni termali huwa pass kritiku fil-produzzjoni ta' apparat semikonduttur, peress li jipprovdi saff protettiv li jista 'jipprevjeni l-kontaminazzjoni u jtejjeb l-affidabbiltà u l-prestazzjoni tal-apparat. Barra minn hekk, is-saff tal-ossidu jista 'jaġixxi bħala iżolatur, li jippermetti l-ħolqien ta' reġjuni differenti ta 'materjal semikonduttur bi proprjetajiet elettriċi li jvarjaw.
Fil-qosor, l-ossidazzjoni termali tal-wejfers tas-silikon hija proċess kruċjali fil-manifattura ta 'apparati semikondutturi u mikroelettronika. Jipprovdi saff ta 'ossidu uniformi u ta' kwalità għolja li jtejjeb il-prestazzjoni u l-affidabbiltà tal-apparati u jippermetti l-ħolqien ta 'reġjuni differenti ta' materjal semikonduttur bi proprjetajiet elettriċi li jvarjaw.